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  • 中国芯片极紫外(EUV)光刻光源技术获得重大突破,使用固体光源突破被美国“卡脖子”的局面。4月29日消息,据环球时报旗下账号“哇喔·环球新科技”、观察者网等报道,中国科学院上海光学精密机械研究所(简称中国科学院上海光机所)林楠研究员带领团队,绕过二氧化碳激光,使用固体激光器技术成功开发出LPP-EUV光源,已经达到国际领先水平,对中国自主开展EUV光刻有重要意义 (水城百事)

by 匿名, Tuesday, April 29, 2025, 20:52

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